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鏡頭式原子力顯微鏡LensAFM

Nanosurf LensAFM產(chǎn)品主要特點(diǎn):幾乎可以安裝在任何一款光學(xué)顯微鏡或三維光學(xué)輪廓儀上內置馬達用于自動(dòng)探針逼近AFM標準模式與擴展AFM模式可以通過(guò)模塊化控制器來(lái)配置

  • 品牌:瑞士Nanosurf
  • 型號:LensAFM

Nanosurf LensAFM鏡頭式原子力顯微鏡

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擴展您光學(xué)顯微鏡的分辨率

Nanosurf LensAFM 是一個(gè)當光學(xué)顯微鏡和輪廓儀達到其分辨率極限時(shí)可以幫您繼續探究的原子力顯微鏡。它可以像常規物鏡一樣安裝,從而無(wú)縫擴展了這些光學(xué)儀器的分辨率和測量能力。 LensAFM不僅提供3D表面形貌信息,還可用于分析被測樣品的各種物理特性。

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用你常用的儀器進(jìn)行AFM測量

在越來(lái)越多的情境下,研究人員希望結合光學(xué)和原子力顯微鏡技術(shù)。光學(xué)顯微鏡的易用性,篩選能力和(無(wú))樣品制備要求幾乎是無(wú)與倫比的。然而,有時(shí)目標放大100倍的是不夠的,您想更仔細地觀(guān)察一些超出儀器分辨率的微小特征。在常規實(shí)驗室環(huán)境中,您需要兩個(gè)專(zhuān)用儀器,并且有必要將樣品從一個(gè)設備轉移到另一個(gè)設備。 使用LensAFM則不必如此。憑借其極小的設計和巧妙的安裝機制,您需要做的就是旋轉光學(xué)顯微鏡或輪廓儀上的轉盤(pán)并運行掃描。

LensAFM將完美地集成到您的工作流程中:將其安裝在光學(xué)顯微鏡的轉盤(pán)上 - 就像常規物鏡一樣 - 您可以使用正常物鏡選樣品以找到感興趣的區域。隨后,使用集成的8倍光學(xué)鏡頭可以再次定位該區域,然后您可以執行AFM測量以獲得更高分辨率的3D信息:以您慣有的方式工作,分辨率和功能卻得到極大提升。

LensAFM具有快速卸載機制,可輕松地將LensAFM安裝到轉臺和從轉臺卸下??烧{安裝保證您可以以高于10μm的精度更換它。芯片安裝座上的對準凹槽還可確保下一個(gè)微懸臂的尖端位于相同位置的4μm范圍內,即使在微懸臂更換后也能再次回到相同的特征值。由于這些對準凹槽,您甚至不需要在微懸臂上執行激光對準,從而節省了額外的時(shí)間。

LensAFM 為您的光學(xué)顯微鏡帶來(lái)了所有這些測量功能,無(wú)需重新思考一整個(gè)新的工作流程。觀(guān)看視頻,了解提升您的顯微能力是多么容易。

提升光學(xué)顯微鏡的能力

由于光學(xué)顯微鏡的分辨率受光的波長(cháng)限制,因此光學(xué)系統在可實(shí)現的分辨率上有一個(gè)極限。在越來(lái)越多的應用中,就需要光學(xué)和原子力顯微鏡的組合。此外,AFM可以無(wú)障礙表征透明樣品或其他難以光學(xué)評估的樣品。且不僅僅是樣品的形貌:AFM還允許獲得其他材料特性的知識,例如,表面粗糙度,硬度變化,磁性或電導/電阻。

LensAFM 成像模式

以下描述為儀器所具備的模式。某些模式可能需要其他組件或軟件選項。詳情請瀏覽產(chǎn)品手冊或直接聯(lián)系我們

標準成像模式

靜態(tài)力模式
動(dòng)態(tài)力模式(輕敲模式)
相位成像模式

電性能

導電探針 AFM (C-AFM)
壓電力顯微 (PFM)
靜電力顯微 (EFM)
開(kāi)爾文探針力顯微(KPFM)
掃描擴散電阻顯微 (SSRM)

磁性能

磁力顯微

機械性能

力調制
力譜
力映射

其他測量模式

刻蝕和納米操縱

LensAFM 應用示例

LensAFM /光學(xué)平臺組合提供了一個(gè)互補的成像系統,極大地擴展了這些儀器單獨的分辨率和測量能力,如下面的三張圖所示

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相同區域由LensAFM的內置8倍物鏡觀(guān)察到的光學(xué)視圖。 AFM微懸臂在光學(xué)圖像中可見(jiàn),允許在測量之前容易地定位樣品。

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由LensAFM記錄的同樣缺陷的AFM形貌。該區域的三維數據清楚地識別出該缺陷為涂層上的一個(gè)洞,部分被碎屑填充。







系統參數

LensAFM 掃描頭參數

最大掃描范圍 (XY)(1,2)110 μm70 μm
最長(cháng) Z-范圍(1)22 μm14 μm
XY-線(xiàn)性平均誤差< 0.6%< 1.2&%
Z-測量噪聲水平 (RMS, 靜態(tài)模式)(3)典型值 350 pm (最大值 500 pm)
Z-測量噪聲水平 (RMS, 動(dòng)態(tài)模式)(3)典型值 90 pm (最大值 150 pm)
自動(dòng)樣品趨近內置電動(dòng)平行趨近,行程4.5 mm
微懸臂對準通過(guò)對準芯片技術(shù)自動(dòng)進(jìn)行自調整
樣品觀(guān)察(4)內置 8× 物鏡, 45或60 mm副焦距離(5)
AFM 測量再定位精度±10 μm (包括微懸臂更換,掃描頭重新安裝和接近)
(1) 對于110-μm 掃描頭,制造公差為±10%; 對于70-μm 掃描頭,制造公差為±15%
(2) AFM掃描方向旋轉45°時(shí)的最大掃描范圍
(3) 使用C3000控制器測量,在穩定的桌面上進(jìn)行主動(dòng)隔振,并在低噪聲實(shí)驗室環(huán)境中使用(無(wú)空調)
(4) 對于不同的光學(xué)顯微鏡類(lèi)型,均可提供具有正確副焦距的適配器
C3000 控制器 — 核心硬件參數  
X/Y/Z-軸掃描和位置控制器3× 24-bit DAC (200 kHz)
X/Y/Z-軸掃描和位置控制器3× 24-bit ADC (200 kHz)
激勵和調制輸出4× 16-bit DAC (20 MHz)
模擬信號輸入帶寬0–5 MHz
主輸入信號捕獲2× 16-bit ADC (20 MHz)
2× 24-bit ADC (200 kHz)
附加用戶(hù)信號輸出3× 24-bit DAC (200 kHz)
附加用戶(hù)信號輸入3× 24-bit ADC (200 kHz)
附加監控信號輸出2× 24-bit ADC (200 kHz)
數字同步2× 數字輸出, 2× 數字輸入, 2× I2C 總線(xiàn)
FPGA 模塊和嵌入式處理器ALTERA FPGA,
32-bit NIOS-CPU,
80 MHz, 256 MB RAM,
多任務(wù)操作系統
通訊USB 2.0 高速連到PC和掃描頭接口
系統時(shí)鐘內部夸脫(10mhz)或外部時(shí)鐘
電源90–240 V AC, 70 W, 50/60Hz

掃描頭尺寸

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幾乎可以安裝在任何直立式光學(xué)顯微鏡或3D光學(xué)輪廓儀上

LensAFM可以像標準物鏡一樣安裝,并通過(guò)各種可用的安裝適配器與所有常用的光學(xué)顯微鏡和3D輪廓儀(Zeiss,Olympus,Leica,Nikon,Mitutoyo)兼容。

Zeiss / Olympus
BF RMS W20.32 x 0.706, 45 mm

Zeiss
DF M27 x 0.75, 45 mm

Olympus
DF RMS W26x0.706, 45mm

Leica
M25x0.75, 45 mm

Nikon
M25x0.75, 60 mm

Leica
M32x0.75, 45 mm

Nikon
M32x0.75, 60 mm

Mitutoyo
RMS W26x0.706, 95 mm


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